Comparaison des procédés d'ablation par faisceau laser et par faisceau d'électrons pour la croissance de couches minces
Les méthodes de croissance de couches minces dites pulsées présentent certaines spécificités, notamment la présence d'espèces très énergétiques venant se déposer à la surface du substrat. L'ablation laser (PLD) est à ce jour la technique pulsée la plus connue et permet de former des couche...
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| Autor principal: | |
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| Formato: | Thèse numérique |
| Lenguaje: | Français |
| Publicado: |
Villeurbanne :
[CCSD]
2008.
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | Accès au texte intégral Accès Université d'Orléans |
| Nota: |
Description d'après la consultation, 2018-04-26 Titre provenant de l'écran titre Cette édition peut différer de la version de soutenance enregistrée sous le Numéro National de Thèse : 2008ORLE2023 Thèses CCSD |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Comparison between pulsed laser deposition and pulsed electron beam deposition for thin film growth |
| Edition sous un autre format: | • Comparaison des procédés d'ablation par faisceau laser et par faisceau d'électrons pour la croissance de couches minces, par Sylvain Tricot, [S.l.], [s.n.], 2008, 1 vol. (154 p.) |
| Sumario: | Les méthodes de croissance de couches minces dites pulsées présentent certaines spécificités, notamment la présence d'espèces très énergétiques venant se déposer à la surface du substrat. L'ablation laser (PLD) est à ce jour la technique pulsée la plus connue et permet de former des couches minces de composés complexes, et d'oxydes particulièrement. Mais la méthode atteint ses limites dans le cas de cibles de matériaux peu absorbants à la longueur d'onde laser comme les semi-conducteurs à large bande interdite. L'ablation par faisceau pulsé d'électrons (PED) est une technique de croissance encore peu connue et très similaire à la PLD. L'objectif de ce travail est de maîtriser les paramètres de la PED pour obtenir des couches minces présentant un intérêt pour des applications en microélectronique. Chaque étape du processus de dépôt a fait l'objet d'une étude et d'une comparaison avec la PLD. La modélisation de l'interaction électron-matière a permis d'obtenir l'évolution de la température de la cible soumise au bombardement par les électrons. Le plasma d'ablation a été étudié en détail grâce à la spectroscopie d'émission optique et à l'imagerie rapide afin notamment de connaître l'énergie des espèces du plasma. Le matériau choisi pour ce travail est l'oxyde de zinc (ZnO). Des films minces de ZnO ont été formés par PED et l'étude montre que ces couches sont de bonne composition chimique et que la qualité cristalline des couches est équivalente aux films formés par PLD nanoseconde. Ces couches sont transparentes à plus de 80% dans le visible et assez conductrices pour imaginer des applications en tant qu'oxyde transparent conducteurs par exemple. |
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| Notas: | Description d'après la consultation, 2018-04-26 Titre provenant de l'écran titre Cette édition peut différer de la version de soutenance enregistrée sous le Numéro National de Thèse : 2008ORLE2023 Thèses CCSD |
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