Etude des précurseurs gazeux de couches minces en carbone déposées à partir de phases gazeuses activées thermiquement et par plasma
L'optimisation des procédés CVD et CVI, en vue d'accroître la vitesse de dépôt et d'améliorer leur qualité, nécessite une bonne connaissance de la nature et de la concentration des espèces présentes en phase gazeuse. Deux types de dépôts de carbone ont été considérés : les films diama...
保存先:
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| その他の著者: | |
| フォーマット: | Thèse et Mémoire papier |
| 言語: | Français |
| 出版事項: |
[S.l.] :
[s.n.]
2002.
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| 主題: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Gaseous precursors of carbon thin films deposited from thermal or plasma activated gas phase |
| Edition sous un autre format: | • Etude des précurseurs gazeux de couches minces en carbone déposées à partir de phases gazeuses activées thermiquement et par plasma, par Olivier Aubry, 2006, Villeurbanne, [CCSD] |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| 配架場所 | 請求記号 | Type de prêt | 状態 | |
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| Magasin | TS 19-2002-9 b |
A consulter sur place
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| Magasin | TS 19-2002-9 | 利用可 |