Simulations du dépôt par pulvérisation plasma et de la croissance de couches minces
L'objectif de cette thèse est d'étudier le dépôt de couches minces par pulvérisation plasma à l'aide de simulations de dynamique moléculaire, en mettant l'accent sur les mécanismes de la formation de la microstructure dans diverses conditions de dépôt pertinentes pour les expérie...
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| Autor principal: | |
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| Altres autors: | , |
| Format: | Thèse numérique |
| Idioma: | Anglais Français |
| Publicat: |
2013.
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| Matèries: | |
| Accés en línia: | Accès au texte intégral https://theses.univ-orleans.fr/public/2013ORLE2024_vm.pdf http://www.theses.fr/2013ORLE2024/abes https://theses.hal.science/tel-00933201 |
| Nota: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Leanne Pitchford (Président du jury) ; Pascal Brault, Jean-Marc Bauchire, Leanne Pitchford, Alain Dollet, Erik Neyts, William Bussiere, Anne-Lise Thomann (Membre(s) du jury) ; Alain Dollet, Erik Neyts (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Simulations of plasma sputtering deposition and thin film growth |