Study of cryoetching plasma processes using fluorocarbon gases
Cette thèse a été réalisée au GREMI dans le cadre du projet ANR PSICRYO, en collaboration avec le laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) et l'institut des matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN). Le but de ce projet de recherche était d'étudier l'interaction plasma-s...
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| প্রধান লেখক: | Nos, Jack, 1995- |
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| অন্যান্য লেখক: | Dussart, Rémi, 19..-...., auteur en physique (Thesis advisor), Tillocher, Thomas, 1980- (Thesis advisor), Cardinaud, Christophe, 19..-...., auteur en nanoélectronique, Eon, David, 1977-..., enseignant-chercheur, Booth, Jean-Paul, 19..-...., physicien, Girard, Aurélie, 1980-...., chercheuse en électronique (Opponent), Despiau-Pujo, Emilie, 1983- (Opponent), De Marneffe, Jean Francois, 19..-...., auteur en nanoélectronique (Opponent) |
| বিন্যাস: | Thèse numérique |
| ভাষা: | Anglais |
| প্রকাশিত: |
2025.
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| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | Accès au texte intégral https://theses.univ-orleans.fr/public/2025ORLE1062_va.pdf https://theses.fr/2025ORLE1062/abes https://theses.hal.science/tel-05570325 |
| টীকা: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Christophe Cardinaud (Président du jury) ; Aurélie Girard, Emilie Despiau-Pujo, Jean Francois De Marneffe (Membre(s) du jury) ; David Eon, Jean-Paul Booth (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Etude de procédés de cryogravure à base de gaz fluorocarbonés |
অনুরূপ উপাদানগুলি
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Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium
(Thèse et Mémoire papier)
Mellhaoui, Xavier, 1978-
[s.n.], 2006 -
Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium
(Thèse numérique)
Mellhaoui, Xavier, 1978-
[CCSD], 2006 -
Elaboration de masques nano poreux de polymères et gravure profonde du silicium
(Thèse numérique)
Vital, Alexane, 1990-
, 2016 -
Piégeage des impuretés métalliques présentes dans le silicium destiné au photovoltaïque par plasma immersion ion implantation (PIII)
(Thèse numérique)
Kouadri Boudjelthia, El Amin, 1984-
, 2012 -
Gravure profonde du silicium par le procédé cryogénique : application à la réalisation de trous traversants : optimisation du procédé, mécanismes réactionnels en phase gazeuse et interaction plasma/silicium
(Thèse et Mémoire papier)
Tillocher, Thomas, 1980-
[s.n.], 2006