Piégeage des impuretés métalliques présentes dans le silicium destiné au photovoltaïque par plasma immersion ion implantation (PIII)
Malgré son grand potentiel, l énergie photovoltaïque n arrive pas encore à trouver une grande place dans le paysage énergétique mondial. Elle se heurte à deux problèmes de taille : le coût et le rendement. Les cellules solaires à base du silicium multicristallin (mc-Si) perdent beaucoup de leur rend...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , |
| التنسيق: | Thèse numérique |
| اللغة: | Français |
| منشور في: |
2012.
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | Accès réservé au texte intégral |
| ملاحظة: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Conditions extrêmes et matériaux : haute température et irradiation (Orléans ; 2008-...) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Eric Millon (Président du jury) ; Esidor Ntsoenzok, Eric Millon, Marie-France Beaufort, Jacques Chevallier, Abdelilah Slaoui, Gabrielle Regula, Frédéric Mazen, Frank Torregrosa (Membre(s) du jury) ; Marie-France Beaufort, Jacques Chevallier (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Extraction of silicon metal impurities to be used for photovoltaic by plasma immersion ion implantation (PII) |