Cryo-gravure de couches atomiques par plasma : mécanismes et procédés
Cette thèse a été réalisée au GREMI en collaboration avec Tokyo Electron Ltd, qui a également financé le projet. Le but de cette étude était de développer un nouveau procédé de gravure de couche atomique (ALE) à température cryogénique pour la gravure de matériaux à base de silicium.Le Cryo-ALE cons...
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| Autor principal: | |
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| Altres autors: | , , , , , , |
| Format: | Thèse numérique |
| Idioma: | Français |
| Publicat: |
2020.
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| Matèries: | |
| Accés en línia: | Accès au texte intégral ftp://ftp.univ-orleans.fr/theses/103937_ANTOUN_2020_archivage.pdf http://www.theses.fr/2020ORLE3067/abes https://theses.hal.science/tel-05580654 |
| Nota: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Pascal Chabert (Président du jury) ; Emilie Despiau-Pujo, Christophe Cardinaud (Membre(s) du jury) ; Sophie Bouchoule, Gottlieb S. Oehrlein (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Cryo-Atomic Layer Etching by plasma :, mechanisms and processes |