Elaboration de masques nano poreux de polymères et gravure profonde du silicium
En microélectronique, les techniques actuelles de fabrication des supercondensateurs requièrent le développement de motifs nanostructurés de surface spécifique élevée. Nous nous intéressons à une alternative émergeante aux techniques classiques top-down de fabrication des masques de gravure : les mé...
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| Autor principal: | |
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| Outros Autores: | , , , , , , |
| Formato: | Thèse numérique |
| Idioma: | Français |
| Publicado em: |
2016.
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | Accès au texte intégral https://theses.univ-orleans.fr/public/2016ORLE2011_va.pdf http://www.theses.fr/2016ORLE2011/abes https://theses.hal.science/tel-01431186 |
| Nota: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Interfaces, Confinement, Matériaux et Nanostructures (Orléans, Loiret ; 2015-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Jannick Duchet-Rumeau (Président du jury) ; Christophe Sinturel, Rémi Dussart, Jannick Duchet-Rumeau, Christophe Cardinaud, Raluca Tiron, Mohamed Boufnichel, Thomas Tillocher (Membre(s) du jury) ; Christophe Cardinaud, Raluca Tiron (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Elaboration of nano porous polymers masks and silicon deep etching |