Elaboration de masques polymère pour la localisation du silicium poreux
Ces travaux portent sur la localisation de la gravure du silicium au moyen de masques polymères résistants à l'acide fluorhydrique, indispensable à la formation du silicium poreux par gravure électrochimique ou par gravure chimique catalysée par métal (MaCE). Pour ce faire, nous avons exploré u...
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Autres auteurs: | , , , , , |
| Format: | Thèse numérique |
| Langue: | Français |
| Publié: |
2024.
|
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | Accès au texte intégral https://theses.univ-orleans.fr/public/2024ORLE1056_va.pdf http://www.theses.fr/2024ORLE1056/abes https://theses.hal.science/tel-04963646 |
| Note: |
Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Interfaces, Confinement, Matériaux et Nanostructures (Orléans, Loiret ; 2015-....) (Laboratoire), Laboratoire GREMAN (Tours) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Olivier Soppera (Président du jury) ; Thomas Defforge (Membre(s) du jury) ; Raluca Tiron, Yannick Coffinier (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Elaboration of polymer masks for the localisation of porous silicon |