Etude de la phase initiale de croissance d'agrégats de silicium dans un plasma argon-silane : application à la croissance de couches minces de silicium nanostructurées
Ce travail porte sur l'étude de la phase initiale de croissance d'agrégats de silicium dans un plasma argon-silane utilisé pour la croissance de couches minces de silicium nanostructurées ns-Si :H. L'objectif de cette étude est d'établir le lien entre la formation des nanoparticu...
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| 1. Verfasser: | |
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| Weitere Verfasser: | |
| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Sprache: | Français |
| Veröffentlicht: |
[S.l.] :
[s.n.]
2001.
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| Schlagworte: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Study of the first growth phase of silicon aggregates in argon-silane plasma :, application to grow nanostructured silicon thin films |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| Standort | Signatur | Type de prêt | Status | |
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| Magasin | TS 19-2001-34 b |
A consulter sur place
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| Magasin | TS 19-2001-34 | Verfügbar |