Etude des mécanismes de la gravure isotrope sélective pour des dispositifs avancés de microélectronique :: SCD d'Orléans

Etude des mécanismes de la gravure isotrope sélective pour des dispositifs avancés de microélectronique

Etude des mécanismes de la gravure isotrope sélective pour des dispositifs avancés de microélectronique

Les limitations technologiques actuelles liées à la réduction des dimensions des dispositifs montrent la nécessité de développer des architectures alternatives au transistor classique afin de poursuivre la course à la miniaturisation tout en offrant des performances électriques améliorées. Diverses...

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書目詳細資料
主要作者:	Caubet-Hilloutou, Véronique, 1980-
其他作者:	Boufendi, Laïfa (Directeur de thèse), Borel, Stéphan (Directeur de thèse)
格式:	Thèse et Mémoire papier
語言:	Français
出版:	[S.l.] : [s.n.] 2006.
主題:	Microélectronique Plasmas (gaz ionisés) Gravure par plasma Thèses et écrits académiques
Autres localisations:	Voir dans le Sudoc
Variante du titre:	Mechanisms study of isotropic and selective etching for advanced devices in microelectronics field

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