Etude des mécanismes de la gravure isotrope sélective pour des dispositifs avancés de microélectronique
Les limitations technologiques actuelles liées à la réduction des dimensions des dispositifs montrent la nécessité de développer des architectures alternatives au transistor classique afin de poursuivre la course à la miniaturisation tout en offrant des performances électriques améliorées. Diverses...
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| Weitere Verfasser: | , |
| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Sprache: | Français |
| Veröffentlicht: |
[S.l.] :
[s.n.]
2006.
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| Schlagworte: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Mechanisms study of isotropic and selective etching for advanced devices in microelectronics field |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| Standort | Signatur | Type de prêt | Status | |
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| Magasin | TS 19-2006-67 |
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