Etude de la phase initiale de croissance d'agrégats de silicium dans un plasma argon-silane : application à la croissance de couches minces de silicium nanostructurées
Ce travail porte sur l'étude de la phase initiale de croissance d'agrégats de silicium dans un plasma argon-silane utilisé pour la croissance de couches minces de silicium nanostructurées ns-Si :H. L'objectif de cette étude est d'établir le lien entre la formation des nanoparticu...
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| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Sprache: | Français |
| Veröffentlicht: |
[S.l.] :
[s.n.]
2001.
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| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Study of the first growth phase of silicon aggregates in argon-silane plasma :, application to grow nanostructured silicon thin films |