Defect-oriented testing for nano-metric CMOS VLSI circuits : 2nd edition
Failures of nano-metric technologies owing to defects and shrinking process tolerances give rise to significant challenges for IC testing. As the variation of fundamental parameters such as channel length, threshold voltage, thin oxide thickness and interconnect dimensions goes well beyond acceptabl...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
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| Další autoři: | |
| Médium: | Livre numérique |
| Jazyk: | Anglais |
| Vydáno: |
New York, NY :
Springer US : Imprint: Springer
[20..].
Cham : Springer Nature |
| Edice: | Frontiers in electronic testing
34 |
| On-line přístup: | Accès sur la plateforme de l'éditeur Accès sur la plateforme Istex Accès Université d'Orléans Accès INSA CVL |
| Poznámka: |
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| Edition sous un autre format: | • Defect-Oriented Testing for Nano-Metric CMOS VLSI Circuits, Texte imprimé, 9780387465463 |