Interconnect noise optimization in nanometer technologies

Interconnect has become the dominating factor in determining system performance in nanometer technologies. Dedicated to this subject, Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies provides insight and intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high co...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteurs principaux: Elgamel, Mohamed A., Bayoumi, Magdy A. (Auteur)
Format: Livre numérique
Langue:Anglais
Publié: New York, NY : Springer US 2006.
Cham : Springer Nature
Accès en ligne:Accès sur la plateforme de l'éditeur
Accès sur la plateforme Istex
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL
Note: Archives Springer e-books (Licence nationale)
Archives Springer e-books (Licence nationale)
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Edition sous un autre format:• Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies, Texte imprimé, 9781441938442
• Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies, Texte imprimé, 9780387507163
• Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies, Texte imprimé, 9780387258706

En ligne

Accès sur la plateforme de l'éditeur
Accès sur la plateforme Istex
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL