Caractérisation microstructurale des matériaux : analyse par les rayonnements X et électronique

Cet ouvrage présente de façons exhaustive et pédagogique les bases physiques et méthodologiques de caractérisation des matériaux basées sur l'utilisation des rayonnements X et électronique. Les six chapitres de cet ouvrage couvrent l'ensemble de la discipline, depuis l'exposé du langa...

Fuld beskrivelse

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Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter: Esnouf, Claude
Format: Livre papier
Sprog:Français
Udgivet: Lausanne : Presses polytechniques et universitaires romandes cop. 2011.
Serier:METIS LyonTech
Fag:
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Edition sous un autre format:• Caractérisation microstructurale des matériaux, analyse par les rayonnements X et électronique, Claude Esnouf, Lausanne, Presses polytechniques et universitaires romandes, 2011, METIS Lyon Tech, 978-2-88914-264-4
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245 1 0 |a Caractérisation microstructurale des matériaux :  |b analyse par les rayonnements X et électronique   |c Claude Esnouf. 
260 |a Lausanne :  |b Presses polytechniques et universitaires romandes,  |c cop. 2011. 
300 |a 1 vol. (XVI-579 p.) :  |b ill., fig., graph., couv. ill. en coul. ;  |c 24 cm. 
490 0 |a METIS LyonTech 
504 |a Bibliogr. en fin de chapitres. Notes bibliogr. Index 
505 0 |a Chapitre 1, Eléments de cristallographie -- Chapitre 2, Diffraction par les cristaux -- Chapitre 3, Radiocristallographie X -- Chapitre 4, Diffraction par les rayonnements corpusculaires -- Chapitre 5, Imagerie électronique -- Chapitre 6, Spectroscopies x et électronique -- Annexe A, Réseaux et groupes à deux dimensions -- Annexe B, Transformée de Fourier, produit de convolution et fonction de Patterson -- Annexe C, Coefficient de Debye-Waller -- Annexe D, Rappels sur la structure électronique d'un atome -- Annexe E, Optique diffractive : réseaux zonés et lentille de Fresnel -- Annexe F, Facteur de forme et géométrie du cristal -- Annexe G, Relation facteur de diffusion électronique et potentiel -- Annexe H, Facteur de diffusion électronique dans le modèle Wentzel-Yukawa -- Annexe I, Correcteurs d'abérrations -- Annexe J, Compléments à l'imagerie de haute résolution -- Annexe K, Règle d'or de Fermi et sections efficaces de pertes 
520 |a Cet ouvrage présente de façons exhaustive et pédagogique les bases physiques et méthodologiques de caractérisation des matériaux basées sur l'utilisation des rayonnements X et électronique. Les six chapitres de cet ouvrage couvrent l'ensemble de la discipline, depuis l'exposé du langage spécialisé de la cristallographie jusqu'aux méthodes fines impliquant les grands instruments scientifiques. Les méthodes basées sur l'usage du rayonnement X et du rayonnement électronique et mettant en oeuvre la diffraction ou l'imagerie sont exposées en détail, tout comme les nombreux modes d'imagerie électronique. Un chapitre entier est par ailleurs dévolu à la présentation des spectroscopies utiles tant à la caractérisation d'ordre chimique que celle d'ordre structural. [source : 4e de couv.] 
650 |a Microstructure (physique) 
650 |a Rayons X 
650 |a Cristallographie 
776 0 |0 180922904  |t Caractérisation microstructurale des matériaux  |o analyse par les rayonnements X et électronique  |f Claude Esnouf  |c Lausanne  |n Presses polytechniques et universitaires romandes  |d 2011  |s METIS Lyon Tech  |z 978-2-88914-264-4 
997 |0 407477  |1 Livre papier  |a Ressource papier  |c 0/Orléans/  |c 1/Orléans/BU Sciences, Technologies, STAPS/  |z Orléans, BU Sciences, Technologies, STAPS, 620.11 ESN