Propriétés des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation dans les polytypes 3C et 6H du carbure de silicium déterminées par annihilation de positons et RPE
Les applications potentielles du carbure de silicium (SiC) en microélectronique ont motivé de nombreuses études sur les défauts ponctuels, qui jouent un rôle important dans la compensation électrique. Ce matériau possède en outre de nombreux atouts pour participer au confinement des matières fissile...
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| Auteur principal: | |
|---|---|
| Autres auteurs: | , |
| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Langue: | Français |
| Publié: |
2006.
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| Sujets: | |
| Note: |
RPE = Résonance paramagnétique électronique Publication autorisée par le jury |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Properties of point defects either native or induced by irradiation in the 3C and 6H polytypes of silicon carbide determined by positron annihilation and EPR |
| Edition sous un autre format: | • Propriétés des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation dans les polytypes 3C et 6H du carbure de silicium déterminées par annihilation de positons et RPE, par Xavier Kerbiriou, Villeurbanne, [CCSD], 2006 |
| LEADER | 04358nam a22003617a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 237074 | ||
| 008 | 070214s2006 xxe ||| |||| 00| 0 fre d | ||
| 009 | PPN112574939 | ||
| 041 | 0 | |a fre |b fre |b eng | |
| 084 | |a 530 | ||
| 100 | 1 | |a Kerbiriou, Xavier, |d 1979- | |
| 240 | 1 | 0 | |a Properties of point defects either native or induced by irradiation in the 3C and 6H polytypes of silicon carbide determined by positron annihilation and EPR |
| 245 | 1 | 0 | |a Propriétés des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation dans les polytypes 3C et 6H du carbure de silicium déterminées par annihilation de positons et RPE |c par Xavier Kerbiriou ; sous la direction de Gilbert Blondiaux et de Guillaume Petite. |
| 260 | |c 2006. | ||
| 300 | |a 1 vol. (232 p.) : |b ill. ; |c 30 cm. | ||
| 500 | |a RPE = Résonance paramagnétique électronique | ||
| 500 | |a Publication autorisée par le jury | ||
| 502 | |a Thèse de doctorat. Physique des matériaux et des surfaces. Orléans. 2006 | ||
| 504 | |a Bibliographie à la fin de chaque chapitre | ||
| 520 | |a Les applications potentielles du carbure de silicium (SiC) en microélectronique ont motivé de nombreuses études sur les défauts ponctuels, qui jouent un rôle important dans la compensation électrique. Ce matériau possède en outre de nombreux atouts pour participer au confinement des matières fissiles dans les réacteurs à caloporteur gazeux du futur (4ème génération). Dans cette thèse, nous avons utilisé la Résonance Paramagnétique Electronique et la Spectroscopie d Annihilation de Positons pour étudier les propriétés (nature, taille, état de charge, migration et agglomération sous recuit) des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation avec différentes particules (H , e , ions carbone) dans les polytypes 3C et 6H de SiC. L étude par annihilation de positons des défauts natifs dans 6H-SiC a permis de mettre en évidence une forte concentration de pièges non lacunaires de type accepteur, qui ne sont pas présents dans les cristaux 3C-SiC. La nature des défauts détectés après irradiation avec des électrons de basse énergie (190keV) dépend du polytype. En effet, si des paires de Frenkel de silicium et des monolacunes de carbone sont détectées dans les cristaux 6H, seules des monolacunes de carbone sont détectées dans les cristaux 3C. Nous proposons que ces différences quant aux populations de défauts ponctuels détectées résultent de valeurs différentes des énergies de seuil de déplacement du silicium dans les deux polytypes (environ 20eV pour 6H et 25eV pour 3C). Par ailleurs, les irradiations avec des protons de 12MeV et des ions carbone de 132MeV créent des monolacunes de silicium ainsi que des bilacunes VSi-VC. Ni la particule (protons ou ions carbone), ni le polytype (3C ou 6H) n influent sur la nature des défauts générés. Enfin l étude du recuit de monocristaux 6H-SiC irradiés avec des protons de 12MeV a permis de mettre en évidence plusieurs processus successifs. Le résultat le plus original est l agglomération des monolacunes de silicium avec les bilacunes VSi-VC qui mène à la formation de trilacunes VSi-VC-VSi. | ||
| 650 | |a Carbure de silicium | ||
| 650 | |a Irradiation | ||
| 650 | |a Défauts ponctuels | ||
| 650 | |a Trous (électronique) | ||
| 650 | |a Positons |x Annihilation | ||
| 650 | |a Résonance paramagnétique électronique | ||
| 650 | |a Thèses et écrits académiques | ||
| 700 | 1 | |a Blondiaux, Gilbert. |4 ths | |
| 700 | 1 | |a Petite, Guillaume. |4 ths | |
| 710 | 2 | |a Université d'Orléans. |4 dgg | |
| 776 | 0 | |0 22769242X |t Propriétés des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation dans les polytypes 3C et 6H du carbure de silicium déterminées par annihilation de positons et RPE |f par Xavier Kerbiriou |c Villeurbanne |n [CCSD] |d 2006 | |
| 787 | 0 | 8 | |i Reproduced as: |0 246941847 |t Propriétés des défauts ponctuels natifs et induits par irradiation dans les polytypes 3C et 6H du carbure de silicium déterminées par annihilation de positons et RPE |f par Xavier Kerbiriou |c Lille |n Atelier national de reproduction des thèses |d 2006 |p Microfiches |s Lille-Thèses |
| 997 | |0 237074 |1 Thèse et Mémoire papier |a Ressource papier |c 0/Orléans/ |c 1/Orléans/BU Sciences, Technologies, STAPS/ |z Orléans, BU Sciences, Technologies, STAPS, TS 19-2006-4 |z Orléans, BU Sciences, Technologies, STAPS, TS 19-2006-4 b | ||