Etude et contrôle de la phase initiale de formation de poudres nanométriques dans les plasmas froids, basse pression en dilutions Argon-Silane et Hydrogène-Silane
Les plasmas poussiéreux trouvent actuellement des applications dans la fabrication de nouveaux matériaux tel que le silicium polymorphe. Réalisé par PECVD en dilution Silane, ce matériau est constitué d'une matrice de silicium amorphe dans laquelle sont incrustées des nanocristallites de silici...
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
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| Autres auteurs: | |
| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Langue: | Français |
| Publié: |
[S.l.] :
[s.n.]
2005.
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| Sujets: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Study and control of the first growth phase of nonometer sized particles in cold low-pressure argon-silane and hydrogen-silane plasmas |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| Localisation | Cote | Type de prêt | Statut | |
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| Magasin | TS 19-2005-29 b |
A consulter sur place
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| Magasin | TS 19-2005-29 | Disponible |