Défauts et propriétés électriques du rutile pur ou dopé à haute température (1200 K - 1800 K)
GENERALITES SUR LA NON STOECHIOMETRIE DANS UN OXYDE SEMICONDUCTEUR MO::(2+X). APPLICATION A TIO::(2). MESURES DE CONDUCTIVITE ELECTRIQUE, DE POUVOIR THERMOELECTRIQUE ET DE DIFFUSION CHIMIQUE DE L'OXYGENE. APPLICATION DE LA REFLEXION IR A L'ETUDE DU PROCESSUS DE TRANSPORT DANS UN OXYDE DE C...
שמור ב:
| מחבר ראשי: | |
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| פורמט: | Thèse et Mémoire papier |
| שפה: | Français |
| יצא לאור: |
[S.l.] :
[s.n.]
1977.
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| נושאים: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
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| 502 | |a Thèse de doctorat. Sciences physiques. Orléans. 1977 | ||
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| 520 | |a GENERALITES SUR LA NON STOECHIOMETRIE DANS UN OXYDE SEMICONDUCTEUR MO::(2+X). APPLICATION A TIO::(2). MESURES DE CONDUCTIVITE ELECTRIQUE, DE POUVOIR THERMOELECTRIQUE ET DE DIFFUSION CHIMIQUE DE L'OXYGENE. APPLICATION DE LA REFLEXION IR A L'ETUDE DU PROCESSUS DE TRANSPORT DANS UN OXYDE DE COMPOSITION VARIABLE. DOPAGE PAR DES CATIONS HETEROVALENTS (NIOBIUM, CHROME) | ||
| 650 | |a Oxyde de titane | ||
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