Optimisation des procédés de dépôt de diamant, de l'adhérence et des propriétés tribologiques des revêtements sur alliage de titane

Les travaux présentés dans ce mémoire ont pour objectif d'optimiser le procédé de dépôt assisté par plasma micro-onde des couches de diamant sur alliage de titane. Des études fondamentales associant des caractérisations du plasma par spectroscopie d'émission et par spectrométrie de masse e...

Disgrifiad llawn

Wedi'i Gadw mewn:
Manylion Llyfryddiaeth
Prif Awdur: Met, Christophe, 1976-
Awduron Eraill: Vandenbulcke, Lionel (Cynghorydd traethodau ymchwil)
Fformat: Thèse et Mémoire papier
Iaith:Français
Cyhoeddwyd: [S.l.] : [s.n.] 2003.
Pynciau:
Nodyn: Publication autorisée par le jury
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Variante du titre:Optimization of diamond deposition processes, adhesion and tribological properties on titanium alloy
Disgrifiad
Crynodeb:Les travaux présentés dans ce mémoire ont pour objectif d'optimiser le procédé de dépôt assisté par plasma micro-onde des couches de diamant sur alliage de titane. Des études fondamentales associant des caractérisations du plasma par spectroscopie d'émission et par spectrométrie de masse et des calculs cinétiques à l'étude des dépôts obtenus ont permis de déduire des conditions pouvant conduire à une augmentation de la vitesse de croissance à température modérée tout en conservant les propriétés intrinsèques des couches, notamment une faible rugosité de surface. L'adhérence de ces couches est également optimisée à partir de différents essais mécaniques (traction, rayure, indentation) et leurs propriétés tribologiques sont testées dans des milieux physiologiques en vue d'applications en biomécanique. Enfin, sur silicium, l'utilisation de ces couches a été envisagée pour des applications en électronique.
Disgrifiad o'r Eitem:Publication autorisée par le jury
Disgrifiad Corfforoll:208 p. : ill. ; 30 cm.
Llyfryddiaeth:Notes bibliogr.