Diagnostic et modélisation d'un plasma basse pression gaz rares-fluor excité à 13.56 mhz
Ce travail porte sur l'étude du plasma source d'un réacteur type hélicon pouvant être utilisé pour la gravure des semiconducteurs. Nous utilisons un mélange ar-he-f#2 à des pressions variant entre 4 et 20 mtorr avec des conditions de mélange variables. L'interférométrie microonde (68...
Enregistré dans:
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| Andre forfattere: | |
| Format: | Thèse et Mémoire papier |
| Sprog: | Français |
| Udgivet: |
[S.l.] :
[s.n.]
1991.
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| Fag: | |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Diagnostic and modelling of a rare gas-fluorine low pressure plasma excited at 13.56 mhz |
| Edition sous un autre format: | • Diagnostic et modélisation d'un plasma basse pression gaz rares-fluor excité à 13.56 mhz, Mustapha Elyaakoubi, Villeurbanne, [CCSD], 2009 |