Diagnostic et modélisation d'un plasma basse pression gaz rares-fluor excité à 13.56 mhz
Ce travail porte sur l'étude du plasma source d'un réacteur type hélicon pouvant être utilisé pour la gravure des semiconducteurs. Nous utilisons un mélange ar-he-f#2 à des pressions variant entre 4 et 20 mtorr avec des conditions de mélange variables. L'interférométrie microonde (68...
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| Format: | Thèse numérique |
| Langue: | Français |
| Publié: |
Villeurbanne :
[CCSD]
2009.
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| Accès en ligne: | Accès au texte intégral Accès Université d'Orléans |
| Note: |
Description d'après la consultation, 2018-04-26 Titre provenant de l'écran titre Cette édition peut différer de la version de soutenance enregistrée sous le Numéro National de Thèse : 1991ORLE2017 Thèses CCSD |
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| Variante du titre: | Diagnostic and modelling of a rare gas-fluorine low pressure plasma excited at 13.56 mhz |
| Edition sous un autre format: | • Diagnostic et modélisation d'un plasma basse pression gaz rares-fluor excité à 13.56 mhz, Mustapha Elyaakoubi, [S.l.], [s.n.], 1991 |