ETUDE ET MODELISATION DE RECOUVREMENTS DE STRUCTURES PAR DES FILMS DE SILICIUM AMORPHE ET D'OXYDE DE SILICIUM DEPOSES PAR PROCEDES CHIMIQUES EN PHASE VAPEUR ASSISTES PAR PLASMA
LA TOPOLOGIE COMPLEXE DES CIRCUITS D'UN DISPOSITIF ELECTRONIQUE, TELS QUE LES LIGNES METALLIQUES DE COMMANDE D'UN ECRAN PLAT DE VISUALISATION, INDUIT DES MODIFICATIONS LOCALES DES PROPRIETES DES FILMS QUI LES RECOUVRENT. CETTE ETUDE A POUR BUT, D'EVALUER ET DE COMPRENDRE LES MECANISME...
Tallennettuna:
| Päätekijä: | |
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| Muut tekijät: | |
| Aineistotyyppi: | Thèse et Mémoire papier |
| Kieli: | Français |
| Julkaistu: |
[S.l.] :
[s.n.]
1997.
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| Aiheet: | |
| Huomautus: |
1997ORLE2034 |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | STUDY AND MODELING OF STRUCTURES COVERAGE WITH AMORPHOUS SILICON AND SILICON DIOXIDE FILMS DEPOSITED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR PROCESSES |