Strain-Induced Effects in Advanced MOSFETs

Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor fil...

Full beskrivning

Sparad:
Bibliografiska uppgifter
Huvudupphovsman: Sverdlov, Viktor
Materialtyp: Livre numérique
Språk:Anglais
Publicerad: Vienna : Springer Vienna [20..].
Cham : Springer Nature
Upplaga:1st ed. 2011.
Serie:Computational Microelectronics
Länkar:Accès sur la plateforme de l'éditeur
Accès sur la plateforme Istex
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL
Anmärkning: Archives Springer e-books (Licence nationale)
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Edition sous un autre format:• Strain-Induced Effects in Advanced MOSFETs, Texte imprimé, 9783709103814
• Strain-Induced Effects in Advanced MOSFETs, Texte imprimé, 9783709103838
• Strain-Induced Effects in Advanced MOSFETs, Texte imprimé, 9783709119334
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506 |a Accès soumis à abonnement pour tout autre établissement 
506 |a Conditions particulières de réutilisation pour les bénéficiaires des licences nationales. https://www.licencesnationales.fr/springer-nature-ebooks-contrat-licence-ln-2017 
520 |a Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is investigated in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. A rigorous overview of transport modeling in strained devices is given 
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