Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses : Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
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| Hlavní autoři: | , , |
|---|---|
| Médium: | Livre numérique |
| Jazyk: | Anglais |
| Vydáno: |
Cham :
Springer International Publishing
[20..].
Cham : Springer Nature |
| On-line přístup: | Accès sur la plateforme de l'éditeur Accès sur la plateforme Istex Accès Université d'Orléans Accès INSA CVL |
| Poznámka: |
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| Edition sous un autre format: | • Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses, Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology |