Advanced nanoscale ULSI interconnects : fundamentals and applications

Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamental and Applications brings a comprehensive description of copper based interconnect technology for Ultra Large Scale Integration (ULSI) technology to Integrated Circuit (ICs) application. This book reviews the basic technologies used today for the copp...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Autres auteurs: Shacham-Diamand, Yosi (Directeur de la publication), Osaka, Tetsuya (Directeur de la publication), Datta, Madhav (Directeur de la publication), Ohba, Takayuki (Directeur de la publication)
Format: Livre numérique
Langue:Anglais
Publié: New York, NY : Springer New York 2009.
Cham : Springer Nature
Accès en ligne:Accès sur la plateforme de l'éditeur
Accès sur la plateforme Istex
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL
Note: Archives Springer e-books (Licence nationale)
Archives Springer e-books (Licence nationale)
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Edition sous un autre format:• Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications, Texte imprimé, 9780387958675
• Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications, Texte imprimé, 9780387959054
• Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications, Texte imprimé, 9781461497448

En ligne

Accès sur la plateforme de l'éditeur
Accès sur la plateforme Istex
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL