Simulation numérique multi-échelles du procédé de dépôt par pulvérisation cathodique magnétron
Le procédé de pulvérisation cathodique magnétron est un procédé utilisant des plasmas basse pression, très employé pour la synthèse de couches minces dans l industrie. De nombreuses recherches ont porté sur la compréhension des phénomènes mis en jeu dans le mécanisme de pulvérisation dans le but d a...
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| Autor principal: | |
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| Outros Autores: | , , , , , |
| Formato: | Thèse numérique |
| Idioma: | Français |
| Publicado em: |
2019.
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | Accès au texte intégral https://theses.univ-orleans.fr/public/2019ORLE3031_va.pdf http://www.theses.fr/2019ORLE3031/abes https://theses.hal.science/tel-03128453 |
| Nota: |
Thèse soutenue en co-tutelle Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire), Plasma lab for applications in sustainability and medecine (Antwerp) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Khaled Hassouni (Président du jury) ; Pascal Brault, Jean-Marc Bauchire, Erik Neyts, Khaled Hassouni, Arnaud Delcorte, Stéphanos Konstantinidis (Membre(s) du jury) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Multiscale modelling of cathodic magnetron sputtering |