Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications

Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications

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Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Jones, Anthony C. (Redaktor), Fischer, Ronald A. (Współpracownik), Gladfelter, Wayne L. (Współpracownik), Krumdieck, Susan (Współpracownik), Aspinall, H. (Współpracownik), Parkin, Ivan P. (Współpracownik), Dupuis, Russell D. (Współpracownik), Irvine, Stuart J C. (Współpracownik), Hitchman, Michael L., 1941- (Redaktor), Leese, Barry (Współpracownik), Ritala, Mikko (Współpracownik), Chalker, Paul (Współpracownik), Pemble, Martyn E. (Współpracownik), Niinisto, Jaako (Współpracownik), Palgrave, Robert (Współpracownik), Kanjolia, Ravi (Współpracownik), Parala, Harish (Współpracownik), Alexandrov, S E. (Współpracownik)
Format: Livre numérique
Język:Anglais
Wydane: London : Royal Society of Chemistry 2008.
London :
Dostęp online:Accès sur la plateforme Royal Society of Chemistry
Accès sur la plateforme ISTEX (corpus RSC)
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL
Komentarz: Contributeur(s): Mikko Ritala, Jaako Niinisto, Susan Krumdieck, Paul Chalker, H Aspinall, Martyn E Pemble, Wayne L Gladfelter, Barry Leese, Ronald A Fischer, Harish Parala, Ravi Kanjolia, Russell D Dupuis, S E Alexandrov, Stuart J C Irvine, Robert Palgrave, Ivan P. Parkin
RSC e-books (Licence nationale)
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506 |a Accès soumis à abonnement pour tout autre établissement 
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