Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Další autoři: Jones, Anthony C. (Editor), Fischer, Ronald A. (Spolupracovník), Gladfelter, Wayne L. (Spolupracovník), Krumdieck, Susan (Spolupracovník), Aspinall, H. (Spolupracovník), Parkin, Ivan P. (Spolupracovník), Dupuis, Russell D. (Spolupracovník), Irvine, Stuart J C. (Spolupracovník), Hitchman, Michael L., 1941- (Editor), Leese, Barry (Spolupracovník), Ritala, Mikko (Spolupracovník), Chalker, Paul (Spolupracovník), Pemble, Martyn E. (Spolupracovník), Niinisto, Jaako (Spolupracovník), Palgrave, Robert (Spolupracovník), Kanjolia, Ravi (Spolupracovník), Parala, Harish (Spolupracovník), Alexandrov, S E. (Spolupracovník)
Médium: Livre numérique
Jazyk:Anglais
Vydáno: London : Royal Society of Chemistry 2008.
London :
On-line přístup:Accès sur la plateforme Royal Society of Chemistry
Accès sur la plateforme ISTEX (corpus RSC)
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL
Poznámka: Contributeur(s): Mikko Ritala, Jaako Niinisto, Susan Krumdieck, Paul Chalker, H Aspinall, Martyn E Pemble, Wayne L Gladfelter, Barry Leese, Ronald A Fischer, Harish Parala, Ravi Kanjolia, Russell D Dupuis, S E Alexandrov, Stuart J C Irvine, Robert Palgrave, Ivan P. Parkin
RSC e-books (Licence nationale)
RSC e-books (Licence nationale)
Autres localisations: Voir dans le Sudoc

Internet

Accès sur la plateforme Royal Society of Chemistry
Accès sur la plateforme ISTEX (corpus RSC)
Accès Université d'Orléans
Accès INSA CVL