Caractérisation d'une source de rayonnement extrême-ultraviolet (EUV) par décharge capillaire : mise en évidence du seuil d'ablation des parois
Ce travail concerne l'étude et la caractérisation d'une source de rayonnement Extrême Ultraviolet (EUV) pouvant répondre à diverses applications scientifiques et industrielles en particulier celles liées à la nouvelle génération de la lithographie EUV. Cette source pulsée nommée CAPELLA co...
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| 第一著者: | |
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| その他の著者: | |
| フォーマット: | Thèse et Mémoire papier |
| 言語: | Français |
| 出版事項: |
[S.l.] :
[s.n.]
2005.
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| 主題: | |
| 注記: |
Publication autorisée par le jury |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Characterisation of an extreme ultraviolet (EUV) radiation source based on capillary discharge plasma :, observation of an ablation threshold of the capillary wall |
| LEADER | 02692nam a22002897a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 222466 | ||
| 008 | 050929s2005 xxe ||| |||| 00| 0 fre d | ||
| 009 | PPN091307058 | ||
| 041 | 0 | |a fre |b fre |b eng | |
| 084 | |a 530 | ||
| 100 | 1 | |a Sarroukh, Ouassima, |d 1977- | |
| 240 | 1 | 0 | |a Characterisation of an extreme ultraviolet (EUV) radiation source based on capillary discharge plasma : |b observation of an ablation threshold of the capillary wall |
| 245 | 1 | 0 | |a Caractérisation d'une source de rayonnement extrême-ultraviolet (EUV) par décharge capillaire : |b mise en évidence du seuil d'ablation des parois |c par Ouassima Sarroukh ; [sous la dir. de] M. Claude Fleurier,... |
| 260 | |a [S.l.] : |b [s.n.], |c 2005. | ||
| 300 | |a 166 p. : |b ill. ; |c 30 cm. | ||
| 500 | |a Publication autorisée par le jury | ||
| 502 | |a Thèse de doctorat. Physique des plasmas. Orléans. 2005 | ||
| 504 | |a Bibliogr. p. 159-166 | ||
| 520 | |a Ce travail concerne l'étude et la caractérisation d'une source de rayonnement Extrême Ultraviolet (EUV) pouvant répondre à diverses applications scientifiques et industrielles en particulier celles liées à la nouvelle génération de la lithographie EUV. Cette source pulsée nommée CAPELLA consiste en une décharge dans un capillaire en alumine où circule un gaz. Ce type de décharge produit un plasma chaud, dense et fortement ionisé émettant dans l'EUV. Les échanges thermiques entre le plasma et la paroi peuvent être suffisamment importants pour que la paroi se trouve ablatée. L'utilisation d'un modèle thermique qui détermine l'évolution temporelle de la température de la paroi permet de calculer le seuil d'ablation. Des mesures spectroscopiques du plasma dans plusieurs plages spectrales ont confirmé la présence de ce seuil pour une densité d'énergie injectée de 350 J.cm-3. Les résultats des mesures spectroscopiques ont été comparés aux résultats issus du modèle. | ||
| 650 | |a Ultraviolet lointain | ||
| 650 | |a Spectroscopie ultraviolette | ||
| 650 | |a Plasmas (gaz ionisés) | ||
| 650 | |a Thèses et écrits académiques | ||
| 700 | 1 | |a Fleurier, Claude. |4 ths | |
| 710 | 2 | |a Université d'Orléans. |4 dgg | |
| 787 | 0 | 8 | |i Reproduced as: |0 246837195 |t Caractérisation d'une source de rayonnement extrême-ultraviolet (EUV) par décharge capillaire |o mise en évidence du seuil d'ablation des parois |f par Ouassima Sarroukh |c Lille |n Atelier national de reproduction des thèses |d 2005 |p Microfiches |s Lille-Thèses |
| 997 | |0 222466 |1 Thèse et Mémoire papier |a Ressource papier |c 0/Orléans/ |c 1/Orléans/BU Sciences, Technologies, STAPS/ |z Orléans, BU Sciences, Technologies, STAPS, TS 19-2005-9 |z Orléans, BU Sciences, Technologies, STAPS, TS 19-2005-9 b | ||