Le dosage du silicium dans certains alliages métalliques, séparation de la fraction oxydée du silicium : méthodes de dosage spectrophotomique de Si, P, As, Ge, à l'état d'hétéropolyanions réduits ou non réduits
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
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| Format: | Livre papier |
| Langue: | Français |
| Publié: |
[S.l.] :
[s.n.]
1967.
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| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| Localisation | Cote | Type de prêt | Statut | |
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| Magasin | TS 19-1967-16 a |
A consulter sur place
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| Magasin | TS 19-1967-16 | Disponible |