MISE AU POINT, DEVELOPPEMENT ET INTEGRATION DE MATERIAUX A BASE DE SI ET GE DANS LES TECHNOLOGIES AVANCEES SILICIUM DE TYPE CMOS, BICMOS ET ALTERNATIVES
COMME SUITE A SON INTRODUCTION DANS LA TECHNOLOGIE BIPOLAIRE, LE MATERIAU SIGE A ETE ETUDIE EN VUE DE SON INTRODUCTION DANS LES TECHNOLOGIES CMOS STANDARD (<0,15M) OU ALTERNATIVES. A L'AIDE D'UNE MACHINE CVD MONO-PLAQUE INDUSTRIELLE, PLUSIEURS TYPES D'ALLIAGES SIGE ONT ETE ETUDIES,...
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| Tác giả chính: | |
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| Tác giả khác: | |
| Định dạng: | Thèse et Mémoire papier |
| Ngôn ngữ: | Français |
| Được phát hành: |
[S.l.] :
[s.n.]
1999.
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| Những chủ đề: | |
| Chú thích: |
1999ORLE2046 |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |