Généralisation de faisceaux d'ions à partir de plasmas à haute densité : simulations numériques par code PIC de l'extraction, de la mise en forme du faisceau et de l'usure des grilles, développement de sources radio-fréquences à forte densité de courant (Ar, Xe) et à fort taux de dissociation (O2, N2)

Cette thèse concerne le développement de sources s'ions à fort courant de faisceau (>1mA/cm2) dans la gamme d'énergie du keV à partir de gaz rares (Ar, Xe) et de gaz réactifs (O2, N2). Deux études complémentaires abordant les aspects numériques et expérimentaux ont été menées en parallè...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Irzyk, Michaël, 1974-
Weitere Verfasser: Bouchoule, André (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Format: Thèse et Mémoire papier
Sprache:Français
Veröffentlicht: [S.l.] : [s.n.] 2001.
Schlagworte:
Anmerkung: Publication autorisée par le jury
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Variante du titre:Ion beam formation extracted from high density plasma :, the PIC numerical simulation of the extraction, of the global beam make-up and of the grid's erosion, the design of high density current (Ar, Xe) and high dissociation (O2, N2) radio-frequency ion beam plasma sources

Orléans - BU Sciences Technologies STAPS

Bestandesangaben von Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
  Standort Signatur Type de prêt Status
Magasin TS 19-2001-36 b Exclu du prêt A consulter sur place
Magasin TS 19-2001-36 Empruntable Verfügbar