Généralisation de faisceaux d'ions à partir de plasmas à haute densité : simulations numériques par code PIC de l'extraction, de la mise en forme du faisceau et de l'usure des grilles, développement de sources radio-fréquences à forte densité de courant (Ar, Xe) et à fort taux de dissociation (O2, N2)
Cette thèse concerne le développement de sources s'ions à fort courant de faisceau (>1mA/cm2) dans la gamme d'énergie du keV à partir de gaz rares (Ar, Xe) et de gaz réactifs (O2, N2). Deux études complémentaires abordant les aspects numériques et expérimentaux ont été menées en parallè...
שמור ב:
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| פורמט: | Thèse et Mémoire papier |
| שפה: | Français |
| יצא לאור: |
[S.l.] :
[s.n.]
2001.
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| נושאים: | |
| הערה: |
Publication autorisée par le jury |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | Ion beam formation extracted from high density plasma :, the PIC numerical simulation of the extraction, of the global beam make-up and of the grid's erosion, the design of high density current (Ar, Xe) and high dissociation (O2, N2) radio-frequency ion beam plasma sources |
Orléans - BU Sciences Technologies STAPS
| מקום | סימן המיקום | Type de prêt | סטטוס | |
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| Magasin | TS 19-2001-36 b |
A consulter sur place
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| Magasin | TS 19-2001-36 | זמין |