Materials and processes for next generation lithography
Guardat en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Format: | Livre numérique |
| Idioma: | Anglais |
| Publicat: |
San Diego :
Elsevier Science
2016.
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| Accés en línia: | Accès Université d'Orléans et IFPM Accès INSA CVL |
| Nota: |
Titre provenant de la page de titre du document numérique La pagination de l'édition imprimée correspondante est de 636 p. Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur |
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| Edition sous un autre format: | • Materials and Processes for Next Generation Lithography, Alex Robinson, San Diego, Elsevier Science, 2016, 1 vol. (636 p.), 978-0-08-100354-1 |