Materials and processes for next generation lithography
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| 1. autor: | |
|---|---|
| Format: | Livre numérique |
| Język: | Anglais |
| Wydane: |
San Diego :
Elsevier Science
2016.
|
| Dostęp online: | Accès Université d'Orléans et IFPM Accès INSA CVL |
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Titre provenant de la page de titre du document numérique La pagination de l'édition imprimée correspondante est de 636 p. Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Edition sous un autre format: | • Materials and Processes for Next Generation Lithography, Alex Robinson, San Diego, Elsevier Science, 2016, 1 vol. (636 p.), 978-0-08-100354-1 |
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