Advances in chemical mechanical planarization (CMP)
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| Κύριος συγγραφέας: | |
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| Μορφή: | Livre numérique |
| Γλώσσα: | Anglais |
| Έκδοση: |
San Diego :
Elsevier Science
2016.
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| Διαθέσιμο Online: | Accès Université d'Orléans et IFPM Accès INSA CVL |
| Σημείωση: |
Titre provenant de la page de titre du document numérique La pagination de l'édition imprimée correspondante est de 538 p. Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Edition sous un autre format: | • Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP), Suryadevara Babu, 2016, [Lieu de publication inconnu], Woodhead Publishing, 978-0-08-100165-3 |
| Περιγραφή τεκμηρίου: | Titre provenant de la page de titre du document numérique La pagination de l'édition imprimée correspondante est de 538 p. Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur Cyberlibris (ScholarVox) corpus Sciences de l'ingénieur |
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| Μορφή: | Configuration requise : navigateur internet |
| ISBN: | 9780081002186 |
| Πρόσβαση: | L'accès complet à la ressource est réservé aux usagers des établissements qui en ont fait l'acquisition |