Gravure du titane à fort rapport d'aspect pour innovations biomédicales
Le projet de recherche, réalisé dans le cadre d'une thèse CIFRE, s'est effectué en étroite collaboration entre le laboratoire GREMI situé à Orléans et la société MISTIC SAS basée à Issy-les-Moulineaux afin d'allier les domaines d'expertise complémentaires de chaque partie. En par...
Gorde:
| Egile nagusia: | |
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| Beste egile batzuk: | , , , , , |
| Formatua: | Thèse numérique |
| Hizkuntza: | Français Anglais |
| Argitaratua: |
2022.
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Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Christophe Cardinaud (Président du jury) ; Christophe Cardinaud, Thierry Czerwiec, Agnès Roussy, Angélique Bousquet (Membre(s) du jury) ; Thierry Czerwiec, Agnès Roussy (Rapporteur(s)) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Variante du titre: | High-Aspect-Ratio Plasma Etching of Titanium for Biomedical Innovations |
| Gaia: | Le projet de recherche, réalisé dans le cadre d'une thèse CIFRE, s'est effectué en étroite collaboration entre le laboratoire GREMI situé à Orléans et la société MISTIC SAS basée à Issy-les-Moulineaux afin d'allier les domaines d'expertise complémentaires de chaque partie. En particulier, le sujet a porté sur l'étude de la gravure du titane à fort rapport d'aspect dans le but de réaliser des systèmes innovants de rupture pour des applications visant le développement d'implants biomédicaux de nouvelle génération. La thèse a porté sur l'exploration des paramètres plasma pour le contrôle de la chimie de gravure du titane. Plus précisément, la gravure sèche et anisotrope par plasma du titane constitue une brique technologique majeure que cette thèse a visé à approfondir. Les enjeux scientifiques, décrits ci-dessous, sont de la maîtriser aussi bien à fort rapport d'aspect (gravure profonde de plusieurs centaines de microns) pour la réalisation de microsystèmes en titane aux architectures ambitieuses, qu'à l'échelle nanométrique pour la texturation de leur surface présentant ainsi une réponse au problème de colonisation cellulaire et d'endothélialisation des composants au contact du milieu sanguin. L'objectif final, scientifiquement et technologiquement inédit, est d'avoir un contrôle optimal de la gravure à fort rapport d'aspect (minimum 1:10) ainsi que des procédés de microfabrication reproductibles. L'étude des résidus de gravure et de la contamination du réacteur plasma est aussi un enjeu clé et a nécessité des phases de caractérisations poussées. L'objectif étant par la suite de contrôler la couche de contamination dans le réacteur avec potentiellement un plasma de conditionnement afin de réaliser des procédés dans des conditions identiques et d'obtenir des résultats répétables sur le long terme. The research project, carried out within the context of a CIFRE thesis, was carried out in close collaboration between the GREMI laboratory located in Orléans and the company MISTIC SAS based in Issy-les-Moulineaux in order to combine the complementary fields of expertise of each partner. More specifically, the subject concerns the study of the etching of titanium with high aspect ratio in order to realize innovative systems for applications aiming at the development of new generation biomedical implants.The thesis focuses on the exploration of plasma parameters for the control of the etching chemistry of titanium. In particular, anisotropic plasma etching of titanium is a major technological breakthrough that this thesis aims to explore. The scientific stakes, described below, are to master it at high aspect ratio (deep etching of several hundreds of microns) for the realization of titanium microsystems with ambitious architectures, and at nanometric scale for the texturing of their surface, thus presenting an answer to the problem of cellular colonization and endothelialization of components in contact with the bloodstream.The final objective, scientifically and technologically unprecedented, is to have an optimal control of the etching with high aspect ratio (minimum 1:10) as well as reproducible micro-fabrication processes. The study of etching residues and contamination of the plasma reactor are also a key issue and required extensive characterization phases. The objective is to control the contamination layer in the reactor with a potential plasma conditioning in order to perform processes under identical conditions and to obtain repeatable results over the long term. |
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| Alearen deskribapena: | Titre provenant de l'écran-titre Ecole(s) Doctorale(s) : École doctorale Énergie, Matériaux, Sciences de la Terre et de l'Univers (Centre-Val de Loire ; 2012-....) Partenaire(s) de recherche : Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés. UMR 7344 (Orléans ; 2012-....) (Laboratoire) Autre(s) contribution(s) : Christophe Cardinaud (Président du jury) ; Christophe Cardinaud, Thierry Czerwiec, Agnès Roussy, Angélique Bousquet (Membre(s) du jury) ; Thierry Czerwiec, Agnès Roussy (Rapporteur(s)) |
| Formatua: | Configuration requise : un logiciel capable de lire un fichier au format : PDF |
| Sartu: | Thèse confidentielle jusqu'au 24 juin 2027 |