Aachboun, S., & Ranson, P. (2000). Etude de la gravure profonde du silicium à très basse température: Application à la réalisation de caissons d'isolation pour la microélectronique de puissance. [s.n.].
Style de citation Chicago (17e éd.)Aachboun, Said, et Pierre Ranson. Etude De La Gravure Profonde Du Silicium à Très Basse Température: Application à La Réalisation De Caissons D'isolation Pour La Microélectronique De Puissance. [S.l.]: [s.n.], 2000.
Style de citation MLA (8e éd.)Aachboun, Said, et Pierre Ranson. Etude De La Gravure Profonde Du Silicium à Très Basse Température: Application à La Réalisation De Caissons D'isolation Pour La Microélectronique De Puissance. [s.n.], 2000.
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