Principles of Chemical Vapor Deposition
Guardat en:
| Autors principals: | Dobkin, Daniel M., Zuraw, Michael K. (Autor) |
|---|---|
| Format: | Livre numérique |
| Idioma: | Anglais |
| Publicat: |
Cham :
Springer International Publishing
[20..].
Cham : Springer Nature |
| Accés en línia: | Accès sur la plateforme de l'éditeur Accès sur la plateforme Istex Accès Université d'Orléans Accès INSA CVL |
| Nota: |
Archives Springer e-books (Licence nationale) Archives Springer e-books (Licence nationale) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Edition sous un autre format: | • Principles of Chemical Vapor Deposition, 978-90-481-6277-2 |
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