Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
שמור ב:
| Auteurs principaux: | , |
|---|---|
| פורמט: | Livre numérique |
| שפה: | Anglais |
| יצא לאור: |
Cham :
Springer International Publishing
[20..].
Cham : Springer Nature |
| גישה מקוונת: | Accès sur la plateforme de l'éditeur Accès sur la plateforme Istex Accès Université d'Orléans Accès INSA CVL |
| הערה: |
Archives Springer e-books (Licence nationale) Archives Springer e-books (Licence nationale) |
| Autres localisations: | Voir dans le Sudoc |
| Edition sous un autre format: | • Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films, 978-3-0348-7743-5 |