Plasmas froids : réactivité en volume et en surface
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| Format: | Livre papier |
| Langue: | Français |
| Publié: |
Saint-Étienne :
Publications de l'Université de Saint-Étienne
2004.
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| Collection: | Intégrations / Stéphanr Mottin
[4] |
| Sujets: | |
| Note: |
Autre tirage : 2005 Ill. : schémas, etc. "Cet ouvrage, initié par le Réseau "Plasmas Froids", s'inscrit dans la continuité de l'action transdisciplinaire de la MRCT (Mission des Ressources et Compétences Technologiques) du CNRS." (cit. p. [4]) |
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Table des matières:
- P. 9
- Préface / Victor Sanchez
- P. 11
- Introduction : le réseau Plasmas froids et la Mission des Ressources et Compétences Technologiques du CNRS / Gérard Lelièvre, Françoise Massines et Elodie Girard
- I - Réactivité en volume
- P. 17
- 1-1. Cinétique en volume dans les décharges azote-oxygène / M. Touzeau
- P. 43
- I-2. Simulation en laboratoire de la production d'analogues d'aérosols organiques de l'atmosphère de titan par plasma RF / G. Cernogora, C. Szopa, P. Coll, L. Boufendi
- P. 63
- I-3. Utilisation des diodes laser infrarouge pour les plasmas / A. Rousseau
- II - Traitement de surface par les plasmas
- P. 79
- II-1. Mécanismes élémentaires d'interaction particules-surfaces / P. Brault
- P. 109
- II-2. Interaction plasma d'arc - surface pour l'obtention de dépôt: influence de la réactivité, des interfaces, de la micro et nano-structure sur les propriétés mécaniques / A. Denoirjean
- P. 133
- II-3. Interaction Laser- Silicium / J. Boulmer, D. Débarre, T. Sarnet, G. Kerrien, M. Hernandez
- P. 159
- II-4. Dépôts de couches minces de silicium par voie plasma RF / P. Roca. i Cabarrocas)
- III - Caractérisation des surfaces
- P. 181
- III-1. Introduction aux techniques d'analyse de surface / C. Cardinaud, A. Goulet, T. Minea
- P. 235
- III-2. Ellipsométrie infrarouge à modulation de phase. Principes et applications / E. Garcia-Caurel, B. Drévillon
- P. 257
- III-3. Réflectométrie de Rayons-X / A. Van der Lee