Plasmas froids : génération, caractérisation et technologies
محفوظ في:
| مؤلفون مشاركون: | , |
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| مؤلفون آخرون: | , , |
| التنسيق: | Livre papier |
| اللغة: | Français |
| منشور في: |
Saint-Étienne :
Publications de l'Université de Saint-Étienne
2004.
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| سلاسل: | Intégrations / Stéphane Mottin
[3] |
| الموضوعات: | |
| ملاحظة: |
Ill. : schémas, etc. ; erratum joint à certains exemplaires "Cet ouvrage, initié par le Réseau "Plasmas Froids", s'inscrit dans la continuité de l'action transversale de la MRCT (Mission des Ressources et Compétences Technologiques) du CNRS." (cit. p. [4]) |
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جدول المحتويات:
- P. 9
- Préface / Alix Gicquel
- P. 11
- Introduction : le réseau Plasmas froids et la Mission des Ressources et Compétences Technologiques du CNRS / Gérard Lelièvre, Françoise Massines et Elodie Girard
- I - Génération et dissipation d'énergie
- P. 17
- I-1. Absorbtion et dissipation d'énergie dans un plasma hors équilibre / J.-P. Bœuf
- P. 49
- I-2. Plasmas hors-équilibre à des pressions atmosphériques / K. Hassouni, F. Massines, J.-M. Pouvesle
- P. 109
- I-3. Les plasmas thermiques / A. Gleizes
- II - Accès aux caractéristiques et aux espèces du plasma
- P. 141
- II-1. Le plasma d'arc dans le procédé de projection thermique / J.-F. Couderc
- P. 159
- II-2. Mesures de sondes électrostatiques en plasma basse pression / S. Béchu
- P. 225
- II-3. Diagnostics laser et spectroscopie de masse dans les plasmas réactifs / J. Jolly
- P. 255
- II-4. Saturation optique et autres pièges en spectroscopie laser / N. Sadeghi
- P. 275
- II-5. Pièges en spectroscopie de masse / A. Granier
- P. 297
- II-6. Source d'ionisation par micro pointes pour la spectroscopie de masse spatiale / F. Cipriani, J.-M. Illiano, J.-J. Berthelier
- III - Technologie des réacteurs à plasmas
- P. 323
- III-1. Plasmas micro-onde basses pressions exités à la résonance cyclotronique électronique / Y. Arnal
- P. 353
- III-2. Technologie des réacteur à plasma: Dimensionnement des réacteurs à Plasma micro-onde haute pression / F. Sylva, G. Hagelaar, K. Hassouni, A. Gicquel
- P. 367
- III-3. Technologie des réacteurs à plasmas: Plasmas inductifset capacitifs en basse pression / Ph. Lefaucheux
- P, 391III-4. Les Plasmas thermique / C. Verdy, R. Boblot, H. Deng, P. Gougeon, C. Coddet